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上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 1000 高效气体利用, 低成本设计提供高离子电流, 特别适合中型真空系统. 属于无栅网离子源. 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.
尺寸: 直径= 5.7“ 高= 5.5”
放电电压 / 电流: 50-300V / 10A
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体
伯东 KRI 霍尔离子源 eH 1000 特性:
1.可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时, *大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极
2.宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率
3.多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便; 无需水冷
4.高效的等离子转换和稳定的功率控制
KRI 霍尔离子源 eH 1000 技术参数:
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型号 |
eH1000 / eH1000L / eH1000x02/ eH1000LEHO |
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供电 |
DC magnetic confinement |
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- 电压 |
40-300V VDC |
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- 离子源直径 |
~ 5 cm |
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- 阳极结构 |
模块化 |
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电源控制 |
eHx-30010A |
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配置 |
- |
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- 阴极中和器 |
Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode |
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- 离子束发散角度 |
> 45° (hwhm) |
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- 阳极 |
标准或 Grooved |
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- 水冷 |
前板水冷 |
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- 底座 |
移动或快接法兰 |
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- 高度 |
4.0' |
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- 直径 |
5.7' |
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- 加工材料 |
金属 |
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- 工艺气体 |
Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors |
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- 安装距离 |
10-36” |
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- 自动控制 |
控制4种气体 |
* 可选: 可调角度的支架; Sidewinder
KRI 霍尔离子源 eH 1000 应用领域:
1.离子辅助镀膜 IAD
2.预清洗 Load lock preclean
3.预清洗 In-situ preclean
4.Direct Deposition
5.Surface Modification
6.Low-energy etching
7.III-V Semiconductors
8.Polymer Substrates
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